3N5铪靶稀土靶材铪颗粒Hf磁控溅射镀膜靶材蒸发镀膜

铪溅射靶材具有与金属铪相同的性能。它的熔点2233 °C，沸点4603°C，密度13.31g /cm3，是一种带光泽的银灰色的过渡金属。金属铪强度适中，抗腐蚀性好，中子吸收能力高，大量用于原子能工业；铪可以生成多种合金，还可作贱金属的表面包膜。 我公司可提供进口低锆高纯铪，可加工成靶材，颗粒等。
 
铪靶材制备工艺流程
备料 - 电子束熔炼 - 化学分析 - 锻造 - 轧制 - 退火 - 金相检测 - 机加工 - 尺寸检测 - 清洗 - 终检 - 包装

 铪溅射靶材的应用
引入氧气分压，可以用电溅射或反应溅射铪溅射靶，制备氧化铪薄膜。所得薄膜可用于多种用途，包括用于光子学的光学涂层、薄膜电阻、耐腐蚀性、核产品、集成电路中的栅较绝缘体和传感器。

铪靶材的其他合金形式
铁铪、铪锆合金等。